《对点发射机》是基斯·索尼尔在1992年（50歲）时创作的极简主义风格的藝術作品，属于当代艺术时期的装置藝術作品题材的藝術作品，《对点发射机》的尺寸67.7 x 67.3 x 48.9 cm，使用铝,塑料，目前该藝術作品由梅耶·桑德拉画廊保管。
《对点发射机》
《对点发射机》藝術作品赏析
藝術作品名稱：《对点发射机》
藝術家名稱：基斯·索尼尔
馆藏地：梅耶·桑德拉画廊(梅耶·桑德拉画廊共有1件藏品)
对点发射机是基斯·索尼尔在1992年（50歲）时创作的极简主义风格的藝術作品，属于当代艺术时期的装置藝術作品题材的藝術作品，对点发射机的尺寸67.7 x 67.3 x 48.9 cm，使用铝,塑料，目前该藝術作品由梅耶·桑德拉画廊保管。
《对点发射机》藝術家簡介
基斯·索尼尔（英文：Keith Sonnier，1947年7月31日－），美国后极简主义者、行为艺术家、影像和灯光艺术家。他是1960年代将灯光运用于雕塑的首批艺术家之一，也是过程艺术运动的参与者。
索尼尔1963年毕业于路易斯安那大学拉斐特分校人类学专业，后前往巴黎，1966年回到美国。他随后在纽约开展艺术生涯，1968至1970年间创作了“Ba-O-Ba”和“Neon Wrapping Incandescent”等藝術作品。索尼尔的藝術作品不采用青铜、颜料等传统材料，而是利用了地板和墙面，并加入霓虹灯、玻璃来表现反光。有时他的藝術作品也添加一些被挤压的材料。他曾称挑选这些过去被排除在艺术材料大门之外的材料，是为了“从心理上唤醒某些感觉”，并说自己的藝術作品属于“有一些反文化”的类型。
